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等离子体面粉粒是一类非常重要的聚变材料，即直接在核聚变测试装置中面对等离子体的第一壁（陶瓷喷涂）偏滤器和限制器。

粉粒径的主要功能是有效地控制传递到等离子体的热量，陶瓷喷涂以将热量传递到第一壁的表面，并在异常关闭期间保护其他部件免受等离子轰击，因此需要承受更好的严重热负荷和等离子冲击能力。
陶瓷喷涂粉粒径要求
在所有金属材料中，陶瓷喷涂具有较高的熔点（3420℃），陶瓷喷涂非常稳定，难以腐蚀，并且还具有高的抗焓保持性。同时，陶瓷喷涂还具有良好的导热性和高温强度。因此它非常适合作为等离子体取向的材料。然而，陶瓷喷涂的比例高，加工困难，并且在脆塑性转变温度下韧性差。通过将块与其他金属连接来制造PFM非常困难。金属铜具有优异的导热性、导电性和塑性加工性能，常用作高温环境下的散热材料。陶瓷喷涂和铜的组合不仅可以承受偏滤器的高温环境，而且可以快速地从偏滤器的表面传递热量，这是聚变反应器中理想的第一壁材料。

铜基底上陶瓷喷涂涂层的制备目前是制造PFM的热点。制备陶瓷喷涂涂层的方法是低压陶瓷喷涂（LPPS）技术、大气陶瓷喷涂（APS，airplasmaspray）、物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD）。通过化学气相沉积（CVD）制备的陶瓷喷涂涂层具有良好的抗热震性和抗热疲劳性，但该技术工艺复杂，沉积效率低，难以制作厚涂层成本高，并且在操作中。环境污染很大。与CVD-陶瓷喷涂类似，物理气相沉积也具有低沉积效率和高制备成本。
上述两种方法都不容易产生厚涂层。APS制备陶瓷喷涂涂层具有非常高的氧含量和孔隙率。低压陶瓷喷涂（LPPS）是一种在低压保护气氛下喷涂的方法，特别适用于喷涂高度可氧化的高熔点涂料。目前，国内外对低压陶瓷喷涂粉粒的制备进行了广泛的研究。然而，在大面积基材上长期制备厚涂层的研究工作并不多。两种陶瓷喷涂粉粒用作粉末材料。通过LPPS技术在铜基板上制备陶瓷喷涂涂层。对涂层的微观结构和基本性能进行了表征，讨论了涂层的结构和性能。