低压喷涂陶瓷的特点
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大气喷涂陶瓷技术是这样一种工艺,其中将金属粉末送入刚性非转移电弧等离子弧火焰中以加热至熔融状态并以相同的离子火焰流高速喷射并沉积在预处理工件的表面上形成涂层。大气喷涂陶瓷组织是分层的,并且具有大量缺陷,例如涂层中的界面和孔隙。低压喷涂陶瓷技术于20世纪70年代末在工业应用中引入。这是一种在低压保护气氛中操作喷涂陶瓷工艺以获得无污染,高粘合强度和致密结构涂层的组分的方法。低压喷涂陶瓷的动态工作压力范围为5000至8000Pa。喷涂结构与大气喷涂陶瓷基本相同,并且仍具有分层结构。
超低压喷涂陶瓷技术是近年来在低压喷涂陶瓷基础上开发的一种新型涂料制备技术,其动态工作压力降至100Pa以下。
传统的薄膜制备技术由于薄膜层的生长速度缓慢,物理气相沉积和化学气相沉积CVD主要用于以下薄膜层。热喷涂技术主要是制备上述厚度的涂层。超低压喷涂陶瓷技术的出现填补了喷涂陶瓷厚度之间涂层制备技术的空白。由于其快速,高效和高质量的特性,与气相沉积相比,薄涂层的成本可降低一半以上。因此,它将成为一种非常有前景的功能性涂料制备技术。